书目详细信息
： Ⅲ族氮化物的X射线衍射分析
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-03-082649-7:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | Ⅲ族氮化物的X射线衍射分析/.王文樑著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2025 |
| 载体形态项： | 222页:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 半导体科学与技术丛书 |
| 提要文摘： | 本书共7章：第1章概述了Ⅲ族氮化物薄膜的研究现状、X射线衍射的基本原理及其在该材料体系中的应用背景；第2章探讨了射线衍射在薄膜面内外取向关系分析中的具体应用；第3章重点介绍了原位X射线衍射技术及其在薄膜外延生长实时监测中的应用；第4章论述了X射线衍射测定薄膜晶格常数的技术要点，并对测量误差来源进行了分析；第5章阐述了X射线衍射在薄膜应力分析中的应用，包括应力来源、影响因素及优化策略；第6章着重探讨了X射线衍射技术在薄膜缺陷表征中的应用及其误差控制方法；第7章从单层和多层结构两个维度介绍了X射线衍射在薄膜厚度及层数分析中的具体应用。 |
| 题名主题： | 氮化物 X射线衍射分析 |
| 中图分类： | O657.39 |
| 个人名称等同： | 王文樑 著 |