书目详细信息
： 衍射极限附近的光刻工艺
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-302-67611-9:CNY368.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 衍射极限附近的光刻工艺/.伍强 ... 等编著 |
| 版本项： | 第2版 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2024 |
| 载体形态项： | 22, 672页:;+图 (部分彩图):;+27cm |
| 丛编项： | 先进集成电路工艺技术丛书 |
| 一般附注： | 2019年国家出版基金资助项目 “十三五”重点图书出版规划项目 国家出版基金项目 |
| 提要文摘： | 本书以光刻工艺为主线, 将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求, 以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起, 为读者展现一个整体的图景。本书是一部极具深度和广度的光刻工艺技术著作, 覆盖多学科领域, 体系结构完整, 内容系统全面, 数据资料翔实, 论述严谨, 可读性强。本书的出版将帮助读者全面、深入地了解光刻技术, 推动光刻技术各领域的交流和协同, 促进人才培养、技术进步和产业发展。 |
| 并列题名： | Photolithography process near the diffraction limit eng |
| 题名主题： | 光刻设备 研究 |
| 中图分类： | TN305.7 |
| 个人名称等同： | 伍强 编著 |