书目详细信息
： 气相沉积技术原理及应用
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5024-8658-7:CNY68.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 气相沉积技术原理及应用/.张世宏,王启民,郑军编著 |
| 出版发行项： | 北京:,冶金工业出版社:,2020 |
| 载体形态项： | 179页:;+图:;+24cm |
| 提要文摘： | 本书分为两篇。第一篇从真空镀膜技术基础、物理气相沉积(PVD)薄膜生长成膜的原理出发,详细介绍了蒸发镀、溅射沉积和离子镀膜等各种PVD技术,对PVD技术的发展进行了总结和展望,最后对PVD技术在沉积硬质防护、减磨润滑、耐蚀防护和光电磁功能等方面的应用进行了归纳总结。第二篇从化学气相沉积(CVD)的技术基础出发,详细介绍了热CVD、等离子增强CVD(PECVD)、反应活化扩散CVD和其他新型CVD技术的技术原理和特征,对CVD技术沉积各种金属和陶瓷涂层,在硬质防护、高温防护和功能化方面的应用进行了归纳总结。 |
| 题名主题： | 物理气相沉积 研究 |
| 中图分类： | TG174.444 |
| 个人名称等同： | 张世宏 编著 |
| 个人名称等同： | 王启民 编著 |
| 个人名称等同： | 郑军 编著 |